Influence of 3 T magnetic field on the crystal structure of Zn films prepared by vapor deposition
Influence of 3 T magnetic field on the crystal structure of Zn films prepared by vapor deposition
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3 T磁场对气相沉积Zn薄膜晶体结构的影响
DOI：
10.7498/aps.58.5567
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发表时间：
2009-08
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
操光辉
中科院分区：
文献类型：
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作者：
任忠鸣;任树洋;任维丽;操光辉
在3T的强磁场下，在玻璃基底上沉积了厚度在1 - 3μm范围内的三种不同厚度的锌膜，并与无磁场条件下制备的样品进行了比较。结果表明，在3T磁场中的所有样品……（原句最后不完整）
Zinc films with three different thicknesses in the range of 1—3 μm were deposited on a glass substrate under a high magnetic field of 3 T, and compared with the samples prepared without magnetic field. It’s indicated that the all samples in 3 T magnetic f