Poly-Si films prepared by rapid thermal CVD on boron and phosphorus silicate glass coated ceramic substrates
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DOI：
10.1016/j.tsf.2005.12.113
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发表时间：
2006-07
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
A. Focsa;A. Slaoui;E. Pihan;F. Snijkers;P. Leempoel;G. Beaucarne;J. Poortmans
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Focsa;A. Slaoui;E. Pihan;F. Snijkers;P. Leempoel;G. Beaucarne;J. Poortmans
