Sputter etching of Si substrate to synthesize highly oriented β-FeSi_2 films
Sputter etching of Si substrate to synthesize highly oriented β-FeSi_2 films
复制标题
Si衬底溅射刻蚀合成高取向β-FeSi_2薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S.Igarashi et al.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y.Inui;N.Ito;T.Nakajima;A.Urata;S.Igarashi et al.
