K.Okada, S.Komatsu, S.Matsumoto: "Ion energy distributions and the density of CH_3 radicals in a low pressure inductively coupled CH_4/H_2 plasma used for nanocrystalline diamond deposition"J.Vac.Sci.Technol. A21(6). 1988-1992 (2003)
K.Okada, S.Komatsu, S.Matsumoto: "Ion energy distributions and the density of CH_3 radicals in a low pressure inductively coupled CH_4/H_2 plasma used for nanocrystalline diamond deposition"J.Vac.Sci.Technol. A21(6). 1988-1992 (2003)
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K.Okada、S.Komatsu、S.Matsumoto：“用于纳米晶金刚石沉积的低压感应耦合 CH_4/H_2 等离子体中的离子能量分布和 CH_3 自由基密度”J.Vac.Sci.Technol。
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