Electron and hole trapping at oxide grain boundaries
Electron and hole trapping at oxide grain boundaries
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氧化物晶界处的电子和空穴俘获
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.McKenna
中科院分区：
文献类型：
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作者：
パク・ジンスン;平兮 康彦;毛利真一郎;宮内雄平;中島直敏;松田一成;K.McKenna
