石川 正彦: "TEOS/O_3系常圧熱CVDによるSiO_2初期成膜過程のAFM,XPSによる観察と形態変化メカニズム" 化学工学論文集. 23(5). 644-651 (1997)
石川 正彦: "TEOS/O_3系常圧熱CVDによるSiO_2初期成膜過程のAFM,XPSによる観察と形態変化メカニズム" 化学工学論文集. 23(5). 644-651 (1997)
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Masahiko Ishikawa：“通过AFM和XPS观察初始SiO_2薄膜形成过程以及基于TEOS/O_3的常压热CVD的形态变化机制”化学工程杂志23(5) 644-651(1997)。
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