Electric-field control of metal-insulator transition in (Nd,Sm)NiO3 films using high-k gate dielectrics
Electric-field control of metal-insulator transition in (Nd,Sm)NiO3 films using high-k gate dielectrics
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使用高 k 栅极电介质对 (Nd,Sm)NiO3 薄膜中金属-绝缘体转变的电场控制
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akihito Sawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shutaro Asanuma;Hisashi Shima;Hiroyuki Yamada;Isao Inoue;Hiroshi Akoh;Hiroyuki Akinaga;Akihito Sawa
