Ge表面におけるグラフェン・アシストエッチングの基礎研究～エッチング速度の温度依存性と活性化エネルギーの評価～
Ge表面におけるグラフェン・アシストエッチングの基礎研究～エッチング速度の温度依存性と活性化エネルギーの評価～
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Ge表面石墨烯辅助刻蚀的基础研究 - 刻蚀速率和活化能的温度依赖性评估 -
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
有馬健太
中科院分区：
文献类型：
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作者：
平野智暉;中田裕己;山下裕登;李韶賢;川合健太郎;山村和也;有馬健太
