NH4F浴を用いたSiの陽極酸化における二次元パターンの自己組織化形成
NH4F浴を用いたSiの陽極酸化における二次元パターンの自己組織化形成
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使用 NH4F 浴进行硅阳极氧化中二维图案的自组织形成
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安田拓海，中田昌宏，北田敦，邑瀬邦明，深見一弘
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Daido Akito;Ikeda Yuhei;Yanase Youichi;安田拓海，中田昌宏，北田敦，邑瀬邦明，深見一弘
