K.Osada, Y.Zaitsu S.Matsumoto: "Effect of Stress in the Deposited Silicon Nitride Films on Boron Diffusion in Silicon" J.Electrochemi.Soc.Vol.157. 202-206 (1995)
K.Osada, Y.Zaitsu S.Matsumoto: "Effect of Stress in the Deposited Silicon Nitride Films on Boron Diffusion in Silicon" J.Electrochemi.Soc.Vol.157. 202-206 (1995)
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K.Osada、Y.Zaitsu S.Matsumoto：“沉积氮化硅薄膜中的应力对硅中硼扩散的影响”J.Electrochemi.Soc.Vol.157。
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