Kinetics and mechanism of the silylation of dicobalt octacarbonyl by triethylsilane. Effect of lewis bases on the reaction
Kinetics and mechanism of the silylation of dicobalt octacarbonyl by triethylsilane. Effect of lewis bases on the reaction
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三乙基硅烷对八羰基二钴进行硅烷化的动力学和机理。
DOI：
10.1021/om00136a031
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发表时间：
1986
期刊：
影响因子：
2.8
通讯作者：
L. Markó
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Sisák;F. Ungváry;L. Markó
Mecanisme de la reaction donnant Et 3 SiCo(CO) 4 et H 2 . Des quantites catalytiques de pyridine ou tributylphosphine augmentent la vitesse et changent la cinetique de la reaction
