Miki Moriyama,T.Kawazoe,M.Tanaka,and Masanori Murakami: "Ideal Microstructure of Thermally Stable TiN diffusion Barriers for Cu Interconnects "Proceedings of Advanced Metallization Conference 1999. 277-282 (2000)
Miki Moriyama,T.Kawazoe,M.Tanaka,and Masanori Murakami: "Ideal Microstructure of Thermally Stable TiN diffusion Barriers for Cu Interconnects "Proceedings of Advanced Metallization Conference 1999. 277-282 (2000)
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Miki Moriyama、T.Kawazoe、M.Tanaka 和 Masanori Murakami：“用于铜互连的热稳定 TiN 扩散势垒的理想微观结构”1999 年高级金属化会议记录。277-282 (2000)
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