Preparation and characterization of single crystalline SnO2 films deposited on alpha-Al2O3 (0001) by MOCVD

Preparation and characterization of single crystalline SnO2 films deposited on alpha-Al2O3 (0001) by MOCVD
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MOCVD 在 α-Al2O3 (0001) 上沉积单晶 SnO2 薄膜的制备与表征

DOI：
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发表时间：
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期刊：
Materials Letters
影响因子：
3
通讯作者：
Ma, Jin
Ma, Jin
中科院分区：
材料科学3区
文献类型：
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作者：
Ji, Feng;Luan, Caina;Feng, Xianjin;Yang, Fan;Ma, Jin

文献摘要

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