K.Y.Jun, Y.Shimogaki: "Development of TiSiN CVD process using TiCl_4/SiH_4/NH_3 chemistry for ULSI anti-oxidation barrier applications"Science and Technology of Advanced Materials. (In press). (2004)
K.Y.Jun, Y.Shimogaki: "Development of TiSiN CVD process using TiCl_4/SiH_4/NH_3 chemistry for ULSI anti-oxidation barrier applications"Science and Technology of Advanced Materials. (In press). (2004)
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K.Y.Jun、Y.Shimogaki：“利用 TiCl_4/SiH_4/NH_3 化学物质开发用于 ULSI 抗氧化屏障应用的 TiSiN CVD 工艺”《先进材料科学与技术》。
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