温度制御型不斉液晶場でのヘリカルポリアセチレンの合成

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温控非对称液晶场中螺旋聚乙炔的合成

DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
山下智弘
山下智弘
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Takuo Tanemura;Koji Takeda;Yoshiaki Nakano;江角晋一;山本 慎也;Nobuaki Kambe;山下智弘

文献摘要

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