Suppression of Particulate Contamination for a PECVD Process by Using a New Type of Modulating Plasma.

Suppression of Particulate Contamination for a PECVD Process by Using a New Type of Modulating Plasma.
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使用新型调制等离子体抑制 PECVD 工艺中的颗粒污染。

DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Nanoparticles from the Vapor Phase Synthesis with Chemical and Biochemical Applications
影响因子：
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通讯作者：
M.
M.
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Shimada;M.

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