T. Iwamoto, M. Morita, and T. Ohmi: "Highly-Reliable Ultra Thin Gate Oxide Formation Process" TECHNICAL DIGEST, THE IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICE MEETING. 751-754 (1996)
T. Iwamoto, M. Morita, and T. Ohmi: "Highly-Reliable Ultra Thin Gate Oxide Formation Process" TECHNICAL DIGEST, THE IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICE MEETING. 751-754 (1996)
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T. Iwamoto、M. Morita 和 T. Ohmi：“高度可靠的超薄栅极氧化物形成工艺”技术文摘，IEEE 国际电子器件会议。
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