An optically differential reconfigurable gate array using a 0.18 /spl mu/m CMOS process
An optically differential reconfigurable gate array using a 0.18 /spl mu/m CMOS process
复制标题
使用 0.18 /spl mu/m CMOS 工艺的光学差分可重构门阵列
DOI：
10.1109/socc.2004.1362436
复制
发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
F. Kobayashi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Minoru Watanabe;F. Kobayashi
本文采用0.18/spl mu/m-5金属CMOS工艺技术设计了高密度光差分可重构门阵列（ODRGA）。ODRGA是一种现场可编程门阵列（fpga）。然而，与传统的fpga不同，ODRGAs使用外部光学系统进行光学重新配置。虽然ODRGAs已经使用0.35/spl mu/m-3金属CMOS工艺技术制造，但其栅极密度仍然令人不满意。因此，采用更先进的工艺技术，在7.82mm/sup 2/芯片上制造了具有四个逻辑块，五个开关矩阵和16个I/O位的新型ODRGA-VLSI芯片。本文详细设计了一种预制的ODRGA-VLSI芯片、光学重构电路、门阵列结构、CAD布局以及安装在估计板上的ODRGA-VLSI芯片。本研究还包括重构周期的实验结果。
This paper presents the design of a high-density optically differential reconfigurable gate array (ODRGA) using a 0.18/spl mu/m-5 metal CMOS process technology. ODRGA is a type of field programmable gate arrays (FPGAs). However, unlike conventional FPGAs, ODRGAs are reconfigured optically using an external optical system. Although ODRGAs have already been fabricated using a 0.35/spl mu/m-3 metal CMOS process technology, their gate-density remains unsatisfactory. For that reason, a new ODRGA-VLSI chip with four logic blocks, five switching matrices, and 16 I/O bits was fabricated on a 7.82mm/sup 2/ chip using more advanced process technology. This paper presents the detailed design of a fabricated ODRGA-VLSI chip, the optical reconfiguration circuit, the gate array structure, the CAD layout, and an ODRGA-VLSI chip mounted on an estimation board. This study also includes experimental results regarding the reconfiguration period.
具有动态重构电路的光差分可重构门阵列VLSI芯片
DOI：
--
发表时间：
2005
期刊：
IEEE International parallel & Distributed Processing Symposium CD-ROM
影响因子：
--
作者：
M.Watanabe;F.Kobayashi
通讯作者：
F.Kobayashi