Quantitative Investigation of Spin-drift Velocity in Highly-doped n-type Si
Quantitative Investigation of Spin-drift Velocity in Highly-doped n-type Si
复制标题
高掺杂n型硅中自旋漂移速度的定量研究
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Suzuki and M. Shiraishi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Kameno;Y. Ando;T. Shinjo;H. Koike;T. Sasaki;T. Oikawa;T. Suzuki and M. Shiraishi
