ミストCVD法によるCu3VO4薄膜の形成における溶媒の影響
ミストCVD法によるCu3VO4薄膜の形成における溶媒の影響
复制标题
溶剂对雾气CVD法形成Cu3VO4薄膜的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
喜多 正雄・大門 貴寛
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yuuki Oho;Tomoyuki Homma;and Masao Kita;野上大一，喜多正雄;喜多正雄，大門貴寛，野上大一;喜多 正雄・大門 貴寛
