Fujimoto, T.: "Evaluation and Control of Co - deposition o f Vapor and Cluster/particle in TEOS/OィイD23ィエD2-APCVD Thin Film Preparation Process."Kagaku Kogaku Symposium Series. 67. 31-39 (1999)
Fujimoto, T.: "Evaluation and Control of Co - deposition o f Vapor and Cluster/particle in TEOS/OィイD23ィエD2-APCVD Thin Film Preparation Process."Kagaku Kogaku Symposium Series. 67. 31-39 (1999)
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Fujimoto, T.：“TEOS/O-D23-APCVD 薄膜制备过程中蒸气和团簇/颗粒共沉积的评估和控制”Kagaku Kogaku 研讨会系列 67. 31-39 (1999)。
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