小角X線散乱法による葉酸ナノ製剤の再分散性と構造評価
小角X線散乱法による葉酸ナノ製剤の再分散性と構造評価
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使用小角 X 射线散射评估叶酸纳米制剂的再分散性和结构
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
戸塚裕一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
仙波久実;有馬寛;内山博雅;門田和紀;杉山和正;戸塚裕一
