S.Miyake et al.: "Formation of Carbon Nitride Films by Reactibe High-Density Plasma puttering with Excitationof m=0 mode Helicon Wave" Surface & Coating Technology. (1999)
S.Miyake et al.: "Formation of Carbon Nitride Films by Reactibe High-Density Plasma puttering with Excitationof m=0 mode Helicon Wave" Surface & Coating Technology. (1999)
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S.Miyake 等人：“利用 m=0 模式螺旋波的激励，通过 Reactibe 高密度等离子体推击形成氮化碳薄膜”表面
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