テトラエトキシゲルマニウムを用いた極薄Ge酸化膜の形成
テトラエトキシゲルマニウムを用いた極薄Ge酸化膜の形成
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使用四乙氧基锗形成超薄Ge氧化膜
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
財満鎭明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉田鉄兵;加藤公彦;柴山茂久;坂下満男;竹内和歌奈;田岡紀之;中塚理;財満鎭明
