Generation of Solid-Source H2O Plasma and Its Application to Dry Etching of CaF2
Generation of Solid-Source H2O Plasma and Its Application to Dry Etching of CaF2
复制标题
固源H2O等离子体的产生及其在CaF2干法刻蚀中的应用
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Ohtsuki and F. Koyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Matsutani;H. Ohtsuki and F. Koyama
