細孔壁ラフネスを考慮したシリカ細孔モデルによる吸着ヒステリシス機構の解明 .
細孔壁ラフネスを考慮したシリカ細孔モデルによる吸着ヒステリシス機構の解明 .
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使用考虑孔壁粗糙度的二氧化硅孔隙模型阐明吸附滞后机制。
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮原稔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
平塚龍将;西山奈津美;森健吾;田中秀樹;宮原稔
