低ドーズXe^+プレアモルファス化注入を用いたGeのn^+/p接合形成
低ドーズXe^+プレアモルファス化注入を用いたGeのn^+/p接合形成
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使用低剂量 Xe^+ 预非晶化注入形成 Gen n^+/p 结
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
芝原健太郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
福永哲也;芝原健太郎
