Development of an MeV ion beam lithography system in Jyväskylä
Development of an MeV ion beam lithography system in Jyväskylä
复制标题
于韦斯屈莱开发 MeV 离子束光刻系统
DOI：
10.1016/j.nimb.2007.01.260
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发表时间：
2007
影响因子：
1.3
通讯作者：
H. Whitlow
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Gorelick;Tommi Ylimäki;T. Sajavaara;M. Laitinen;H. Whitlow
