プラズモンナノ材料開発の最前線と応用 第2章3節干渉露光法
プラズモンナノ材料開発の最前線と応用 第2章3節干渉露光法
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等离子体纳米材料开发与应用前沿第二章第三节干涉曝光法
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山田逸成,西井準治
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Wei Wei;Sheng Wang;Zhaolin Gu;Kiwamu Kase;Yusuke Tajima;Takaaki Orii;Hideaki Takaku;Noboru Imai;Jungmyoung Ju and Yutaka Yamagata;山田逸成,西井準治
