Interfacial reaction between monosilane and a polycrystalline tantalum substrate
Interfacial reaction between monosilane and a polycrystalline tantalum substrate
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甲硅烷与多晶钽基板之间的界面反应
DOI：
10.1016/0169-4332(89)90528-x
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发表时间：
1989
影响因子：
6.7
通讯作者：
J. Koulmann
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Alaoui;F. Ringeisen;D. Muller;D. Bolmont;J. Koulmann
