Surface morphology and magnetic anisotropy of obliquely deposited Co/Si (111) films (vol 97, 022507, 2010)
Surface morphology and magnetic anisotropy of obliquely deposited Co/Si (111) films (vol 97, 022507, 2010)
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倾斜沉积Co/Si (111)薄膜的表面形貌和磁各向异性（第97卷，022507，2010）
DOI：
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发表时间：
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影响因子：
4
通讯作者：
Fang, YP He, W Liu, HL Zhan, QF Du, HF Wu, QO Yang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Fang, YP He, W Liu, HL Zhan, QF Du, HF Wu, QO Yang
