A 50 nm-Wide 5μm-Deep Copper Vertical Gap Formation Method by A Gap-Narrowing Post-Process with Supercritical Fluid Deposition for Pirani Gauge Operating over Atmospheric Pressure
A 50 nm-Wide 5μm-Deep Copper Vertical Gap Formation Method by A Gap-Narrowing Post-Process with Supercritical Fluid Deposition for Pirani Gauge Operating over Atmospheric Pressure
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针对大气压下皮拉尼真空计的超临界流体沉积窄间隙后处理形成 50 nm 宽 5μm 深铜垂直间隙的方法
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masakazu Sugiyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masanori Kubota;Yoshio Mita;Takeshi Momose;Aiko Kondo;Yoshihiro Shimogaki;Yoshiaki Nakano;Masakazu Sugiyama
