Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO_2 Thin Films
Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO_2 Thin Films
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连续波激光横向晶化帽SiO_2薄膜多晶硅薄膜的粗糙度降低
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Fujii
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Honkura N.;Matsuzaki M.;Noguchi J.;S.Fujii
