Development of Silicon Photo-Etching with N-Fluoropyridinium Salts
Development of Silicon Photo-Etching with N-Fluoropyridinium Salts
复制标题
N-氟吡啶鎓盐硅光刻技术的发展
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kenta Arima and Mizuho Morita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Junichi Uchikoshi;Takabumi Nagai;Kenji Adachi;Kentaro Kawai;Kenta Arima and Mizuho Morita
