Single crystalline InN films grown on Si substrates by using a brief substrate nitridation process
Single crystalline InN films grown on Si substrates by using a brief substrate nitridation process
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使用简单的衬底氮化工艺在 Si 衬底上生长单晶 InN 薄膜
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Nanishi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Yamaguchi;K.Mizuo;Y.Saito;T.Noguchi;T.Araki;Y.Nanishi
