Super high rate deposition of homo- and hetero-epitaxial Si thick films by mesoplasma CVD
Super high rate deposition of homo- and hetero-epitaxial Si thick films by mesoplasma CVD
复制标题
介质CVD超高速沉积同质和异质外延硅厚膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Kambara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Yoshida;M.Kambara
