Suppression of substrate heating in the sputter-deposition of ITO films.
Suppression of substrate heating in the sputter-deposition of ITO films.
复制标题
ITO 薄膜溅射沉积中基板加热的抑制。
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Makoto Kameyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hideo Iwase;Youichi Hoshi;Makoto Kameyama
