Enhanced SiN Etching by Hydrogen Radicals during Fluorocarbon/Hydrogen Plasma Etching; Molecular Dynamics Simulation Analyses
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氟碳/氢等离子体蚀刻期间氢自由基增强 SiN 蚀刻；
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yuichi Muarakami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Keizo Ito;Nao Takahashi;Kaoru Hattori;Yoko Goto;TakuyaNakanowatari;Kay I. Ohshima;Takanori Horimoto;Yoshinori Ikenaka;Shouta M. Nakayama;Hazuki Mizukawa;Mayumi Ishizuka;Kazushi Miyashita;Yoko Mitani;Yuichi Muarakami
