DIELECTRIC-BREAKDOWN IN ELECTRICALLY STRESSED THIN-FILMS OF THERMAL SIO2
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DOI：
10.1063/1.325096
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发表时间：
1978-01-01
影响因子：
3.2
通讯作者：
HARARI, E
中科院分区：
文献类型：
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作者：
HARARI, E
