Akiko Kikkawa, Rui Morimoto, Akira Izumi, Hideki Matsumura: "Electrical properties of silicon nitride films deposited by catalytic chemical vapor deposition on catalytically nitrided Si(100)"Thin Solid Films. 430. 100-103 (2003)
Akiko Kikkawa, Rui Morimoto, Akira Izumi, Hideki Matsumura: "Electrical properties of silicon nitride films deposited by catalytic chemical vapor deposition on catalytically nitrided Si(100)"Thin Solid Films. 430. 100-103 (2003)
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Akiko Kikkawa、Rui Morimoto、Akira Izumi、Hideki Matsumura：“通过催化化学气相沉积在催化氮化 Si(100) 上沉积的氮化硅薄膜的电性能”固体薄膜。
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