A.Sano: "Self-sputtering of Cu film employing highly ionized Cu plasma"Mat.Res.Soc.Conf.Proc.. ULSI-XI. 709-715 (1996)
A.Sano: "Self-sputtering of Cu film employing highly ionized Cu plasma"Mat.Res.Soc.Conf.Proc.. ULSI-XI. 709-715 (1996)
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A.Sano：“采用高度电离铜等离子体的铜膜自溅射”Mat.Res.Soc.Conf.Proc.. ULSI-XI。
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