高速電子衝撃イオン化における多中心干渉効果:CF_4とCCl_4の電子運動量分布
高速電子衝撃イオン化における多中心干渉効果:CF_4とCCl_4の電子運動量分布
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快速电子碰撞电离中的多中心干涉效应：CF_4和CCl_4的电子动量分布
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高橋正彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
渡邉昇;片渕啓介;Xiangjun Chen;高橋正彦
