多重ゲルマニウム負イオン注入したSi02膜からのフォトルミネッセンス強度のドーズ量依存性
多重ゲルマニウム負イオン注入したSi02膜からのフォトルミネッセンス強度のドーズ量依存性
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注入多个锗负离子的 SiO2 薄膜的光致发光强度的剂量依赖性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
石川順三
中科院分区：
文献类型：
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作者：
服部真史;辻 博司;洗 暢俊;小嶋研史;足立浩一郎;小瀧 浩;後藤康仁;石川順三
