Soft laser desorption/ionization-mass spectrometry on the surface modified silicon substrate with nanometer order roughness
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复制标题
纳米级粗糙度表面改性硅基底的软激光解吸/电离-质谱分析
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takashi Korenaga
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ikeda Hanae;Kohei Shibamoto;Takashi Korenaga
