Y.UCHIDA: "Chemical Vapor Deposition Based Preparation on Porous Silica Films"Jpn. J. Appl. Phys. 39. L1155-L1157 (2000)
Y.UCHIDA: "Chemical Vapor Deposition Based Preparation on Porous Silica Films"Jpn. J. Appl. Phys. 39. L1155-L1157 (2000)
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Y.UCHIDA：“基于化学气相沉积的多孔二氧化硅薄膜的制备”Jpn。
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