CMPにおけるミクロなスラリー循環流れと研磨レートとの関係
CMPにおけるミクロなスラリー循環流れと研磨レートとの関係
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CMP中微观浆料循环流量与抛光速率的关系
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
福田 明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroshi Uchida;Yohei Kayukawa;Yosaku Maeda;北田良二，藤井圭太，池内祐貴，岡田晃;福田 明
