光放射圧ポテンシャルに基づく3次元微細構造加工に関する基礎的研究 －ナノ粒子の２次元局所化性能の評価－
光放射圧ポテンシャルに基づく3次元微細構造加工に関する基礎的研究 －ナノ粒子の２次元局所化性能の評価－
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基于光辐射压势的三维微结构加工基础研究-纳米粒子二维定位性能评价-
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
林 政洋，道畑正岐，高増 潔，高橋 哲
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Kadowaki;M. Wakita;B. Fak;J. Ollivier;S. Ohira-Kawamura;K. Nakajima;H. Takatsu and M. Tamai;林 政洋，道畑正岐，高増 潔，高橋 哲
