Y.C.Jung, K.Ohtani, H.Miura, and M.Ishida: "High quality Silicon/Insulator heteroepitaxial structures formed by molecular beam epitaxy using Al_2O_3 and Si" Journal of Crystal Growth. to be submitted.
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Y.C.Jung、K.Ohtani、H.Miura 和 M.Ishida：“使用 Al_2O_3 和 Si 通过分子束外延形成的高质量硅/绝缘体异质外延结构”《晶体生长杂志》。
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