Preparation and Characterization of (Ti,Al)N Films by Ion mixing and Vapor Deposition Technique
Preparation and Characterization of (Ti,Al)N Films by Ion mixing and Vapor Deposition Technique
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离子混合和气相沉积技术制备(Ti,Al)N薄膜并表征
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Ueta
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Uchida;M.Yamashita;S.Hanaki;T.Ueta
