サブナノ秒領域のスピン注入磁化反転評価のためのTMR素子の作製
サブナノ秒領域のスピン注入磁化反転評価のためのTMR素子の作製
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用于评估亚纳秒区域自旋注入磁化反转的TMR器件的制造
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
青木達也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J Choi;K Sakurai;T Kato;青木達也
